Эрбиевый лазер TriMatrixx
Характеристики аппарата:

Показания: эстетические процедуры для устранения всех признаков старения,
Гиперпигментации, дефектов кожи.
Восстановление рельефа и структуры кожного покрова.
Источник излучения: эрбиевый лазер натрий эрбиевый гранат (Erbium: YAG)
Длина волны: 2940 нм
Диапазон плотности потока энергии: от поверхностного щедящего 0,47Дж/см2 до 127 Дж/см2
Диапазон энергии импульса:250-1000 кДж
Микрофракционные линзы:  область воздействия 5*5 мм (матрица на 64 точки (8*8))
Фокусирующие линзы «плотного луча»: 2-10 мм
Коллимированные линзы «плотного луча»: 1 мм и 6мм
Частота повторения импульса: 1-6Гц,9 Гц
Импульсные режимы: единичный, поезда импульсов, последовательные


TriMatrixx
 

Принцип работы лазера TRIMatrixx:

Три целевых хромофора: вода, меланин, гемоглобин.
 
Три длины волны: 2940 нм(стандарт), 1064 нм и 532 нм (опция).
 
Три лучевых профиля: микрофракционный, фокусированный, коллимированный с регулируемым размером пятна.
 
Три механизма действия: абляция (испарение), коагуляция, резка.
 
Три импульсных режима: единичный импульс, мультипульс, «поезда» импульсов

Микрофракционный термолиз
 
Система TriMatrixx содержит специальные микрофракционные линзы, расщепляющие луч лазера 2940 нм на 64 высокоточных луча, что в совокупности составляет 50 микрон в диаметре.
Каждый микролуч вызывает появление "микротермальной зоны" состоящей из выпаренной и коагулирврованной ткани.
Мощные микролучи образуют матрицу маленьких ран, окруженных "островами кожи", эффект известен как "Фракционный фототермолиз". Не поврежденные участки  помогают поддерживать барьерную функцию кожи, ускоряя реэпитализацию ткани. 

Характеристики аппарата:

Источник излучения: эрбиевый лазер натрий эрбиевый гранат (Erbium: YAG)
Длина волны: 2940 нм
Диапазон плотности потока энергии: от поверхностного щадящего 0,47Дж/см2 до 127 Дж/см2
Диапазон энергии импульса:250-1000 кДж
Микрофракционные линзы: область воздействия 5*5 мм (матрица на 64 точки (8*8))
Фокусирующие линзы "плотного луча": 2-10 мм
Коллимированные линзы "плотного луча": 1 мм и 6мм
Частота повторения импульса: 1-6Гц,9 Гц
Импульсные режимы: единичный, поезда импульсов, последовательные
Длительность импульсов: коротки -250 мкс, короткие мини импульсы-500 мкс, длинные мини импульсы- 750-1000 мкс
Импульсы в последовательности: 2,3 или 4 PIP (система импульс в импульсе)
Длинна последовательности импульсов: 100 мс-1200мс
Задержка последовательных импульсов: 100,150,250,400 мс
Направляющий луч: 650 нм полупроводниковый
Лазерный пистолет (насадка Q1064 Q-Switchhed Nd: YAG ) дополнительная опция – не входит в базовый комплект
Долина волны: 1064 -532 нм
Размер области применения: от 2-5 мм в диаметре.
Энергия луча на выходе: 400 мДж для 1064 нм и 160 мДж для 532 нм
Плотность потока энергии: до 12,7 Дж/см2 Длительность импульса: 10 нс
Электропитание: 220 В 50-60 Гц
Охлаждение: водяное охлаждение
Вес: 60кг
Подставка: специальная подставка, оснащенная дополнительным шкафчиком для аксессуаров.
Гарантия: 2 года